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Model G6-E 尾气处理设备

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G6-E更适用于外延生长和其他半导体的制程中的氢气和氯气的处理。
产品详情

G6-E更适用于外延生长和其他半导体的制程中的氢气和氯气的处理。


Model G6-E is suited to the abatement of gases containing hydrogen and chlorine used for epitaxial growth and other systems in processes to manufacture semiconductors.

产品特点:

•适用于外延生长工艺气体的处理
•可同时处理大流量氯气和氢气,可达400slm
•自动清洗、去除粉状副产物,增长运行时间


Model G6-E 尾气处理设备
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G6-E更适用于外延生长和其他半导体的制程中的氢气和氯气的处理。
021-60581899
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G6-E更适用于外延生长和其他半导体的制程中的氢气和氯气的处理。


Model G6-E is suited to the abatement of gases containing hydrogen and chlorine used for epitaxial growth and other systems in processes to manufacture semiconductors.

产品特点:

•适用于外延生长工艺气体的处理
•可同时处理大流量氯气和氢气,可达400slm
•自动清洗、去除粉状副产物,增长运行时间


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